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      產品展示
      • OTF-1200X-4-RTP1000°C小型RTP爐
        OTF-1200X-4-RTP1000°C小型RTP爐

        1000°C小型RTP爐是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4“石英管和真空法蘭,它是專為半導體和太陽能電池基片(頂值為3“)的退火而設計,采用10KW紅外燈管加熱快速升溫的頂值速度為50°C/秒,30段溫度控制,精度為+/-1°C,計算機通過RS485口和控制軟件實時控制爐子和顯示溫度曲線。

        型號:OTF-1200X-4-RTP
        更新日期:2021-03-29
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      • OTF-1200X-50-S迷你型快速加熱冷卻爐
        OTF-1200X-50-S迷你型快速加熱冷卻爐

        迷你型快速加熱冷卻爐是一款CE認證的可滑動管式爐,配置外徑50x1000mm石英管,工作溫度達1200℃。爐底安裝一對滑軌,可滑動。加熱和冷卻速率可達100℃/m。為取得更快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后移動爐子到樣品位置。為獲得更快冷卻,可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到15℃/s,是低成本快速熱處理的理想

        型號:OTF-1200X-50-S
        更新日期:2021-03-24
        面議
      • OTF-1200X-IR-IISL雙溫區紅外加熱快速熱處理爐
        OTF-1200X-IR-IISL雙溫區紅外加熱快速熱處理爐

        OT-1200X-IR-ISL是一款雙溫區紅外加熱快速熱處理爐,其爐管直徑為4英寸,樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管,允許樣品在真空或氣氛保護環境下移動。此款設備可使樣品升溫速率達到50℃/S,冷卻速率達到10℃/S此款設備不僅可對樣品進行快速熱處理,還可采用HPCVD方法來生長二維晶體(一個加熱區用來盛放固體蒸發原料,另一個加熱區用于沉積樣品)。

        型號:OTF-1200X-IR-IISL
        更新日期:2021-03-23
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      • OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發鍍膜爐
        OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發鍍膜爐

        5英寸近距離蒸發鍍膜爐是一款快速熱處理爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發或CSS(CloseSpacedSublimation)鍍膜實驗,其鍍膜面積可達到5“x5“。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),升溫速率為20°C/s。

        型號:OTF-1200X-RTP-II-5
        更新日期:2021-03-23
        面議
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